Среда, Март 3Научный портал

Оборудование

1

Автоматизированный комплекс для исследования свойств наноструктурированных функциональных материалов.

Назначение и технические характеристики

Назначение

Комплекс предназначен для исследования состояния поверхностей и магнитооптических характеристик пленок, кристаллов и жидкостей методами зондовой и оптической микроскопии/спектроскопии.

Состав комплекса

—   базовый модуль;

— модули для био-медицинских исследований и ближнепольной оптической микроскопии;

—  управляющая электроника, активная виброзащита (СЗМ NTEGRA производства NT-MDT).

Выполняемые измерительные методики

— Контактная атомно-силовая микроскопия (АСМ);

— Микроскопия латеральных сил (МЛС);

— Резонансная АСМ полуконтактная;

— Резонансная АСМ бесконтактная;

— Метод отображения Фазы;

— Метод модуляции силы;

— Изображение Силы Адгезии;

— Сканирующая емкостная микроскопия (СЕМ);

— Метод зонда Кельвина (МЗК) одно и двухпроходный;

— Магнитно-силовая микроскопия (МСМ);

— Электро–силовая микроскопия (ЭСМ);

— Силовая литография;

— Токовая литография;

— Наноманипуляции;

— Сканирующая ближнепольная оптическая микроскопия.

Размеры устанавливаемых образцов, мм

                                                       диаметр

                                                       высота

30;

15;

2

Модуль предварительного экспресс анализа (СЗМ Nanoeducator II производства NT-MDT)

 Назначение и технические характеристики

Назначение

Осуществление предварительной экспресс диагностики материалов методами сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ), может использоваться в учебно-исследовательских целях и имеет соответствующее методическое обеспечение

Выполняемые измерительные методики

— АСМ Отображение рельефа;

— Отображение фазового контраста;

— Спектроскопия;

— Динамическая силовая литография;

— СТМ Отображение рельефа;

— Отображение тока (метод

постоянной высоты);

— I(Z) спектроскопия;

— I(V) спектроскопия.

Диапазон измерений линейных размеров в плоскости XY,  мкм

90;

Диапазон измерений линейных размеров по оси Z, не менее,  мкм

9;

Среднеквадратичное отклонение (СКО) результатов измерений линейных размеров в плоскости XY, не более, %

5;

Среднеквадратичное отклонение (СКО) результатов измерений линейных размеров по оси Z, не более, %

1;

Значение разрешения в плоскости XY, нм

100;

Значение разрешения по оси Z, нм

10;

Нелинейность сканирования в плоскости XY, нм

30;

Неортогональнасть сканера в плоскости XY,  град

2;

Неплоскостность сканирования в плоскости XY, нм.

400;

Максимальный диаметр образца,  мм

12;

Максимальная толщина образца, мм

5.