Автоматизированный комплекс для исследования свойств наноструктурированных функциональных материалов.
Назначение и технические характеристики
Назначение |
Комплекс предназначен для исследования состояния поверхностей и магнитооптических характеристик пленок, кристаллов и жидкостей методами зондовой и оптической микроскопии/спектроскопии. |
Состав комплекса |
— базовый модуль; — модули для био-медицинских исследований и ближнепольной оптической микроскопии; — управляющая электроника, активная виброзащита (СЗМ NTEGRA производства NT-MDT). |
Выполняемые измерительные методики |
— Контактная атомно-силовая микроскопия (АСМ); — Микроскопия латеральных сил (МЛС); — Резонансная АСМ полуконтактная; — Резонансная АСМ бесконтактная; — Метод отображения Фазы; — Метод модуляции силы; — Изображение Силы Адгезии; — Сканирующая емкостная микроскопия (СЕМ); — Метод зонда Кельвина (МЗК) одно и двухпроходный; — Магнитно-силовая микроскопия (МСМ); — Электро–силовая микроскопия (ЭСМ); — Силовая литография; — Токовая литография; — Наноманипуляции; — Сканирующая ближнепольная оптическая микроскопия. |
Размеры устанавливаемых образцов, мм диаметр высота |
30; 15; |
Модуль предварительного экспресс анализа (СЗМ Nanoeducator II производства NT-MDT)
Назначение и технические характеристики
Назначение |
Осуществление предварительной экспресс диагностики материалов методами сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ), может использоваться в учебно-исследовательских целях и имеет соответствующее методическое обеспечение |
Выполняемые измерительные методики |
— АСМ Отображение рельефа; — Отображение фазового контраста; — Спектроскопия; — Динамическая силовая литография; — СТМ Отображение рельефа; — Отображение тока (метод постоянной высоты); — I(Z) спектроскопия; — I(V) спектроскопия. |
Диапазон измерений линейных размеров в плоскости XY, мкм |
90; |
Диапазон измерений линейных размеров по оси Z, не менее, мкм |
9; |
Среднеквадратичное отклонение (СКО) результатов измерений линейных размеров в плоскости XY, не более, % |
5; |
Среднеквадратичное отклонение (СКО) результатов измерений линейных размеров по оси Z, не более, % |
1; |
Значение разрешения в плоскости XY, нм |
100; |
Значение разрешения по оси Z, нм |
10; |
Нелинейность сканирования в плоскости XY, нм |
30; |
Неортогональнасть сканера в плоскости XY, град |
2; |
Неплоскостность сканирования в плоскости XY, нм. |
400; |
Максимальный диаметр образца, мм |
12; |
Максимальная толщина образца, мм |
5. |